haku: @keyword aluminum oxide / yhteensä: 6
viite: 2 / 6
Tekijä: | Lapinsuo, Sakari |
Työn nimi: | Thin film coatings by atomic layer deposition for improvement of the flexural strength of glass |
Atomikerroskasvatuksella valmistettujen ohutkalvopinnoitteiden käyttö lasin taivutuslujuuden parantamisessa | |
Julkaisutyyppi: | Diplomityö |
Julkaisuvuosi: | 2013 |
Sivut: | vii + 62 Kieli: eng |
Koulu/Laitos/Osasto: | Mikro- ja nanotekniikan laitos |
Oppiaine: | Mikro- ja nanotekniikka (S3010) |
Valvoja: | Tittonen, Ilkka |
Ohjaaja: | Jylhä, Olli |
Elektroninen julkaisu: | http://urn.fi/URN:NBN:fi:aalto-201307137203 |
OEVS: | Sähköinen arkistokappale on luettavissa Aalto Thesis Databasen kautta.
Ohje Digitaalisten opinnäytteiden lukeminen Aalto-yliopiston Harald Herlin -oppimiskeskuksen suljetussa verkossaOppimiskeskuksen suljetussa verkossa voi lukea sellaisia digitaalisia ja digitoituja opinnäytteitä, joille ei ole saatu julkaisulupaa avoimessa verkossa. Oppimiskeskuksen yhteystiedot ja aukioloajat: https://learningcentre.aalto.fi/fi/harald-herlin-oppimiskeskus/ Opinnäytteitä voi lukea Oppimiskeskuksen asiakaskoneilla, joita löytyy kaikista kerroksista.
Kirjautuminen asiakaskoneille
Opinnäytteen avaaminen
Opinnäytteen lukeminen
Opinnäytteen tulostus
|
Sijainti: | P1 Ark Aalto 959 | Arkisto |
Avainsanat: | ALD atomic layer deposition glass strengthening reinforcement aluminum oxide Al2O3 ball-on-ring BOR 4PB bending test flexural strength lasi vahvistaminen alumiinioksidi taivutustesti taivutuslujuus |
Tiivistelmä (fin): | Tämä työ käsittelee Beneq Oy:n Espoon puhdastiloissa tehtyä tutkimusta lasin vahvistamisesta atomikerroskasvatusmenetelmällä. Ohutkalvojen kasvatuksen optimointia edelsi selvitys parhaista toimintatavoista lasin lujuuden testaamisessa, johon liittyy mm. lasin leikkaaminen, peseminen, laminointi, ja taivutuslujuuden selvittäminen (ml. luotettavuusanalyysi). Erityyppisten lasikappaleiden pinnoille kasvatettiin pääasiassa trimetyylialumiinista (TMA) ja vedestä tehtyä alumiinioksidia (Al2O3). Ohutkalvojen paksuuden (5-100nm) sekä niiden kasvatusprosessilämpötilan (100-475°C) vaikutusta lasin lujuuteen tutkittiin standardoiduilla taivutuskokeilla. Kalvojen paksuudet ja niiden konformaalisuus mitattiin ellipsometrilla. Tutkimuksen tulokset osoittivat, että atomikerros kasvatusta voidaan käyttää lasin vahvistuksessa teollisessakin mittakaavassa mm. sen luotettavuuden, toistettavuuden, ja ohutkalvon konformaalisuuden ansiosta. Vahvistuksen määrä riippuu pitkälti lasityypistä ja lasin esikäsittelystä. Kemiallisesti vahvistettua lasia saatiin vahvistettua vain jonkin verran, mutta sen sijaan kemiallisesti vahvistamaton lasi vahvistui entisestään suurimmassa osassa tapauksia vähintäänkin merkittävästi, riippuen testausmenetelmästä, lasityypistä, ja vertailumittarista. |
Tiivistelmä (eng): | This work is a study of glass strengthening by atomic layer deposition (ALD) conducted at the cleanroom facilities of Beneq Oy in Espoo, Finland. Optimization of ALD process parameters was preceded by an investigation of best practices for testing glass, including but not limited to cutting, washing, lamination, and exural testing (including reliability analysis) of glass. Glass substrates were encapsulated primarily with Al2O3 lms using trimethylaluminum (TMA) and H2O as precursors. The e ect of lm thickness (between 5-100nm) and reaction temperature (100-475°C) on glass strength was studied by standardized bending tests. Film thickness and uniformity were veri ed by ellipsometry. The results indicated that atomic layer deposition, partly due to its reliability, repeatability, and layer thickness conformity even in large batches can be used to strengthen glass for industrial scale applications. The amount of improvement in strength is largely dependent on the type of glass and its pre-ALD treatment. While little improvement was achieved with chemically strengthened glass, glass without chemical strengthening showed in most cases very good or at least signi cant improvement depending on the applied test method, type of glass and the meter used for comparison. |
ED: | 2013-12-02 |
INSSI tietueen numero: 48050
+ lisää koriin
INSSI