haku: @supervisor Lampinen, Markku / yhteensä: 148
hakutulos-lista
viite: 10 / 148
« edellinen | seuraava »
Tekijä:Ristimäki, Ville
Työn nimi:Atomic layer deposition of dense mixed ionic-electronic conducting membrane on porous tubular substrate for oxygen combustion
Tiiviin yhdistetyn ioni-eletronijohtavan kalvon kasvatus atomikerroskasvatusmenetelmällä huokoiseen putkimaiseen substraattiin happipolttoa varten
Julkaisutyyppi:Diplomityö
Julkaisuvuosi:2012
Sivut:(7) + 75 s. + liitt. 15      Kieli:   eng
Koulu/Laitos/Osasto:Energiatekniikan laitos
Oppiaine:Lämpötekniikka ja koneoppi   (Ene-39)
Valvoja:Lampinen, Markku
Ohjaaja:Mäkelä, Milja
OEVS:
Sähköinen arkistokappale on luettavissa Aalto Thesis Databasen kautta.
Ohje
sulje

Digitaalisten opinnäytteiden lukeminen Aalto-yliopiston Harald Herlin -oppimiskeskuksen suljetussa verkossa

Oppimiskeskuksen suljetussa verkossa voi lukea sellaisia digitaalisia ja digitoituja opinnäytteitä, joille ei ole saatu julkaisulupaa avoimessa verkossa.

Oppimiskeskuksen yhteystiedot ja aukioloajat: https://learningcentre.aalto.fi/fi/harald-herlin-oppimiskeskus/

Opinnäytteitä voi lukea Oppimiskeskuksen asiakaskoneilla, joita löytyy kaikista kerroksista.

Kirjautuminen asiakaskoneille

  • Aalto-yliopistolaiset kirjautuvat asiakaskoneille Aalto-tunnuksella ja salasanalla.
  • Muut asiakkaat kirjautuvat asiakaskoneille yhteistunnuksilla.

Opinnäytteen avaaminen

  • Asiakaskoneiden työpöydältä löytyy kuvake:

    Aalto Thesis Database

  • Kuvaketta klikkaamalla pääset hakemaan ja avaamaan etsimäsi opinnäytteen Aaltodoc-tietokannasta. Opinnäytetiedosto löytyy klikkaamalla viitetietojen OEV- tai OEVS-kentän linkkiä.

Opinnäytteen lukeminen

  • Opinnäytettä voi lukea asiakaskoneen ruudulta tai sen voi tulostaa paperille.
  • Opinnäytetiedostoa ei voi tallentaa muistitikulle tai lähettää sähköpostilla.
  • Opinnäytetiedoston sisältöä ei voi kopioida.
  • Opinnäytetiedostoa ei voi muokata.

Opinnäytteen tulostus

  • Opinnäytteen voi tulostaa itselleen henkilökohtaiseen opiskelu- ja tutkimuskäyttöön.
  • Aalto-yliopiston opiskelijat ja henkilökunta voivat tulostaa mustavalkotulosteita Oppimiskeskuksen SecurePrint-laitteille, kun tietokoneelle kirjaudutaan omilla Aalto-tunnuksilla. Väritulostus on mahdollista asiakaspalvelupisteen tulostimelle u90203-psc3. Väritulostaminen on maksullista Aalto-yliopiston opiskelijoille ja henkilökunnalle.
  • Ulkopuoliset asiakkaat voivat tulostaa mustavalko- ja väritulosteita Oppimiskeskuksen asiakaspalvelupisteen tulostimelle u90203-psc3. Tulostaminen on maksullista.
Sijainti:P1 Ark Aalto  4758   | Arkisto
Avainsanat:ALD
tubular
dense
thin-film
porous
MIEC
putkimainen
tiivis
ohutkalvo
huokoinen
Tiivistelmä (fin): Työssä tutkittiin atomikerroskasvatusmenetelmän soveltuvuutta robustien ja suorituskykyisten hapen tuotannossa käytettävien yhdistetyn ioni-elektronijohtavien kalvojen valmistukseen.
Ei toiminnallisia, tiiviita kalvoja kasvatettiin mesohuokoisen putkimaisen alumiinioksidisubstraatin sisäpinnalle ja lisäksi suoritettiin kokeita mesohuokoisen materiaalin kauttaaltaan pinnoittamiseksi.

Koepinnoitukset tehtiin käyttäen virtaus-tyyppistä reaktoria modifioidulla pakotetulla virtauksella putkimaiselle ja huokoiselle substraatille.
Pinnoitusprosessien paine ja virtaamatieto tallennettiin ja pinnoitettujen näytteiden painetiiveys mitattiin.
Kaasutiiviiden pinnoitusten valmistaminen huokoisen putken sisälle onnistui ja lisäksi mesohuokoisen materiaalin kauttaaltaan pinnoittaminen onnistui testeissä osittain.
Joitakin merkkejä kaasun virtausnopeuden vaikutuksesta atomikerroskasvatuksen onnistumiseen havaittiin.

Sähköisten mittausten perusteella pinnoitusten poikkiala putken sisäpinnalla oli noin kolminkertainen verrattuna teoreettiseen materiaalin kasvunopeuteen ja putken halkaisijaan.
Odotettua suurempi pinnoitteen poikkiala on selitettävissä hallitsemattomalla kalvonkasvulla tai kohentuneella kalvon pinta-alalla, joka on seurausta kalvon myötäilemisestä putken sisäpinnan epätasaisuuksia.
Ehdotuksia prosessin hallinnan parantamiseksi ja huokoisen putkimateriaalin kauttaaltaan pinnoittamisen tehostamiseksi esitetään.
Tiivistelmä (eng): Atomic layer deposition thin film deposition technique was studied for producing robust and high performance mixed ionic-electronic conducting membranes for oxygen production.
Non-functional dense thin films were deposited on the inner surface of a mesoporous tubular alumina substrate and experiments were also done to coat mesoporous substrate material conformally.

Coating experiments were carried out with a flow type reactor, with modified forced flow for coating of tubular and porous substrate.
Pressure and flow rate data for different coating processes were gathered and gas tightness of coated samples were measured.
Gas tight coatings on the inner surfaces of mesoporous tubes and some conformal coating of mesoporous tube material were achieved in the experiments.
Some signs of flow velocity inside the tube to have effect on the film growth were indicated.

From electrical measurements it was derived that coating cross-sectional area on the inner surface of the tube was approximately three times larger than what could be derived from theoretical film growth rate and from the tube's inner diameter.
Larger than expected cross sectional area of the coating is explained as uncontrolled film growth on the inner surface of the tube, or improved surface area of the coating resulting from thin film conform the rough inner surface of the tube.
Suggestions to improve process control and conformal coating of porous tube material are also presented.
ED:2012-07-04
INSSI tietueen numero: 44784
+ lisää koriin
« edellinen | seuraava »
INSSI