Tekijä: | Häkkinen, Pasi |
Työn nimi: | Chemical vapor deposition setup for graphene and single-walled carbon nanotube growth |
Julkaisutyyppi: | Kandidaatintyö |
Julkaisuvuosi: | 2011 |
Sivut: | 42 Kieli: eng |
Koulu/Laitos/Osasto: | Perustieteiden korkeakoulu |
Koulutusohjelma: | Teknillisen fysiikan ja matematiikan tutkinto-ohjelma |
Oppiaine: | Teknillinen fysiikka (F3005) |
Valvoja: | Dijken, Sebastiaan van |
Ohjaaja: | Hakonen, Pertti |
Elektroninen julkaisu: | http://urn.fi/URN:NBN:fi:aalto-201305162282 |
Sijainti: | |
Avainsanat: | chemical vapor deposition CVD single-walled carbon nanotubes SWNT graphene |
ED: | 2011-06-29 |
INSSI tietueen numero: 42573
+ lisää koriin
INSSI