Tekijä: | Kannisto, Klaara |
Työn nimi: | Atomic Layer Deposition of Metal Thin Films |
Julkaisutyyppi: | Kandidaatintyö |
Julkaisuvuosi: | 2010 |
Sivut: | 29 Kieli: eng |
Koulu/Laitos/Osasto: | Kemian ja materiaalitieteiden tiedekunta |
Koulutusohjelma: | Kemian tekniikan tutkinto-ohjelma |
Oppiaine: | Kemia (KE3001) |
Valvoja: | Linnekoski, Juha |
Ohjaaja: | Malm, Jari ; Leskelä, Tuula |
Elektroninen julkaisu: | http://urn.fi/URN:NBN:fi:aalto-201305164420 |
Sijainti: | |
Avainsanat: | atomic layer deposition metal thin films semiconductor microelectronics processing |
ED: | 2011-12-19 |
INSSI tietueen numero: 43299
+ lisää koriin
INSSI