| Tekijä: | Heikkilä, Niklas |
| Työn nimi: | Electroplating current profile effects on deposited Cu |
| Julkaisutyyppi: | Kandidaatintyö |
| Julkaisuvuosi: | 2016 |
| Sivut: | 31 Kieli: eng |
| Koulu/Laitos/Osasto: | Sähkötekniikan korkeakoulu |
| Koulutusohjelma: | Bioinformaatioteknologian koulutusohjelma |
| Oppiaine: | Bioinformaatioteknologia (S121) |
| Valvoja: | Turunen, Markus |
| Ohjaaja: | Ross, Glenn |
| Elektroninen julkaisu: | http://urn.fi/URN:NBN:fi:aalto-201601211094 |
| Sijainti: | |
| Avainsanat: | copper electroplating prc pc |
| ED: | 2016-02-21 |
INSSI tietueen numero: 53082
+ lisää koriin
INSSI