haku: @keyword reaktiivinen ionietsaus / yhteensä: 1
viite: 1 / 1
« edellinen | seuraava »
Tekijä: | Tuovinen, Charlotta |
Työn nimi: | Fabrication of Si nanopillars by reactive ion etching using self-organised masks |
Si nanopilareiden valmistus reaktiivisen ionietsauksen ja itsejärjestäytyvien maskien avulla | |
Julkaisutyyppi: | Lisensiaatintutkimus |
Julkaisuvuosi: | 2003 |
Sivut: | 47 Kieli: eng |
Koulu/Laitos/Osasto: | Sähkö- ja tietoliikennetekniikan osasto |
Oppiaine: | Elektronifysiikka (S-69) |
Valvoja: | Kuivalainen, Pekka |
Ohjaaja: | |
OEVS: | Sähköinen arkistokappale on luettavissa Aalto Thesis Databasen kautta.
Ohje Digitaalisten opinnäytteiden lukeminen Aalto-yliopiston Harald Herlin -oppimiskeskuksen suljetussa verkossaOppimiskeskuksen suljetussa verkossa voi lukea sellaisia digitaalisia ja digitoituja opinnäytteitä, joille ei ole saatu julkaisulupaa avoimessa verkossa. Oppimiskeskuksen yhteystiedot ja aukioloajat: https://learningcentre.aalto.fi/fi/harald-herlin-oppimiskeskus/ Opinnäytteitä voi lukea Oppimiskeskuksen asiakaskoneilla, joita löytyy kaikista kerroksista.
Kirjautuminen asiakaskoneille
Opinnäytteen avaaminen
Opinnäytteen lukeminen
Opinnäytteen tulostus
|
Sijainti: | P1 Ark S80 | Arkisto |
Avainsanat: | nanopillars silicon self-organised masks reactive ion etching optical properties nanopilarit Pii itsejärjestäytyvät maskit reaktiivinen ionietsaus optiset ominaisuudet |
ED: | 2003-05-16 |
INSSI tietueen numero: 19589
+ lisää koriin
« edellinen | seuraava »
INSSI