haku: @keyword X-ray diffraction / yhteensä: 11
hakutulos-lista
viite: 6 / 11
« edellinen | seuraava »
Tekijä:Ali, Saima
Työn nimi:Characterization of atomic layer deposition films by x-ray scattering and atomic force microscopy
Julkaisutyyppi:Diplomityö
Julkaisuvuosi:2012
Sivut:ix + 51      Kieli:   eng
Koulu/Laitos/Osasto:Mikro- ja nanotekniikan laitos
Oppiaine:Optoelektroniikka   (S-104)
Valvoja:Lipsanen, Harri
Ohjaaja:Sintonen, Sakari
OEVS:
Sähköinen arkistokappale on luettavissa Aalto Thesis Databasen kautta.
Ohje
sulje

Digitaalisten opinnäytteiden lukeminen Aalto-yliopiston Harald Herlin -oppimiskeskuksen suljetussa verkossa

Oppimiskeskuksen suljetussa verkossa voi lukea sellaisia digitaalisia ja digitoituja opinnäytteitä, joille ei ole saatu julkaisulupaa avoimessa verkossa.

Oppimiskeskuksen yhteystiedot ja aukioloajat: https://learningcentre.aalto.fi/fi/harald-herlin-oppimiskeskus/

Opinnäytteitä voi lukea Oppimiskeskuksen asiakaskoneilla, joita löytyy kaikista kerroksista.

Kirjautuminen asiakaskoneille

  • Aalto-yliopistolaiset kirjautuvat asiakaskoneille Aalto-tunnuksella ja salasanalla.
  • Muut asiakkaat kirjautuvat asiakaskoneille yhteistunnuksilla.

Opinnäytteen avaaminen

  • Asiakaskoneiden työpöydältä löytyy kuvake:

    Aalto Thesis Database

  • Kuvaketta klikkaamalla pääset hakemaan ja avaamaan etsimäsi opinnäytteen Aaltodoc-tietokannasta. Opinnäytetiedosto löytyy klikkaamalla viitetietojen OEV- tai OEVS-kentän linkkiä.

Opinnäytteen lukeminen

  • Opinnäytettä voi lukea asiakaskoneen ruudulta tai sen voi tulostaa paperille.
  • Opinnäytetiedostoa ei voi tallentaa muistitikulle tai lähettää sähköpostilla.
  • Opinnäytetiedoston sisältöä ei voi kopioida.
  • Opinnäytetiedostoa ei voi muokata.

Opinnäytteen tulostus

  • Opinnäytteen voi tulostaa itselleen henkilökohtaiseen opiskelu- ja tutkimuskäyttöön.
  • Aalto-yliopiston opiskelijat ja henkilökunta voivat tulostaa mustavalkotulosteita Oppimiskeskuksen SecurePrint-laitteille, kun tietokoneelle kirjaudutaan omilla Aalto-tunnuksilla. Väritulostus on mahdollista asiakaspalvelupisteen tulostimelle u90203-psc3. Väritulostaminen on maksullista Aalto-yliopiston opiskelijoille ja henkilökunnalle.
  • Ulkopuoliset asiakkaat voivat tulostaa mustavalko- ja väritulosteita Oppimiskeskuksen asiakaspalvelupisteen tulostimelle u90203-psc3. Tulostaminen on maksullista.
Sijainti:P1 Ark Aalto  666   | Arkisto
Avainsanat:atomic layer deposition
x-ray diffraction
x-ray reflectivity
grazing incidence
atomic force microscopy
Tiivistelmä (eng): Atomic Layer Deposition (ALD) is a thin film deposition technique that has received a lot of attention in many fields of science and industry due to its sequential, self-limiting reactions.
Although it is slow method, it allows uniform, high density films with conformal depositions on 3D high aspect ratio structures.
ALD allows thickness control of the film down to sub nanometre range.
For more understanding and future applications, certain properties like accurate thickness, density and roughness of film is needed to get characterized.

In this work ALD deposited aluminium oxide, titanium dioxide, aluminium nitride and a nanolaminate sample are characterized by X-ray Diffraction (XRD), X-ray Reflectivity (XRR) and Atomic Force Microscopy (AFM) methods.

The density, thickness and roughness of films are measured by XRR method.
Grazing Incidence X-ray Diffraction (GIXRD) is used to examine the crystal nature of the deposited films.
There were no peaks found for the amorphous films.
The crystallite size and phases of crystalline films are determined by this method.

AFM technique was used to see the morphology of the films.
AFM gives the roughness of the films as well which was giving quiet similar results to that of roughness values found by XRR.
These results give a better understanding of ALD films deposited at different temperature conditions and with different thickness values.
ED:2012-11-09
INSSI tietueen numero: 45412
+ lisää koriin
« edellinen | seuraava »
INSSI