haku: @keyword atomikerroskasvatus / yhteensä: 19
viite: 19 / 19
« edellinen | seuraava »
Tekijä: | Lang, Teemu |
Työn nimi: | Atomikerroskasvatuksen optimointi optisten interferenssisuodattimien valmistuksessa |
Optimization of the atomic layer deposition process in the fabrication of optical interference filters | |
Julkaisutyyppi: | Diplomityö |
Julkaisuvuosi: | 2002 |
Sivut: | 71 Kieli: fin |
Koulu/Laitos/Osasto: | Sähkö- ja tietoliikennetekniikan osasto |
Oppiaine: | Optoelektroniikka (S-104) |
Valvoja: | Tuomi, Turkka |
Ohjaaja: | Törnqvist, Runar |
OEVS: | Sähköinen arkistokappale on luettavissa Aalto Thesis Databasen kautta.
Ohje Digitaalisten opinnäytteiden lukeminen Aalto-yliopiston Harald Herlin -oppimiskeskuksen suljetussa verkossaOppimiskeskuksen suljetussa verkossa voi lukea sellaisia digitaalisia ja digitoituja opinnäytteitä, joille ei ole saatu julkaisulupaa avoimessa verkossa. Oppimiskeskuksen yhteystiedot ja aukioloajat: https://learningcentre.aalto.fi/fi/harald-herlin-oppimiskeskus/ Opinnäytteitä voi lukea Oppimiskeskuksen asiakaskoneilla, joita löytyy kaikista kerroksista.
Kirjautuminen asiakaskoneille
Opinnäytteen avaaminen
Opinnäytteen lukeminen
Opinnäytteen tulostus
|
Sijainti: | P1 Ark TKK 2988 | Arkisto |
Avainsanat: | thin-film interference filters atomic layer deposition ALD-reactor ALD-cycle ohutkalvo-interferenssisuodattimet atomikerroskasvatus ALD-reaktori ALD-sykli |
ED: | 2002-12-05 |
INSSI tietueen numero: 19127
+ lisää koriin
« edellinen | seuraava »
INSSI