haku: @keyword heterojunction / yhteensä: 2
viite: 1 / 2
« edellinen | seuraava »
Tekijä: | Ao, Fang |
Työn nimi: | Double Heterostructure Step Recovery Diode Based on Gallium Arsenide Technology |
Galliumarsenidi-teknologialla toteutettu kaksoisheteroliitosdiodi | |
Julkaisutyyppi: | Diplomityö |
Julkaisuvuosi: | 1996 |
Sivut: | 61 Kieli: eng |
Koulu/Laitos/Osasto: | Sähkö- ja tietoliikennetekniikan osasto |
Oppiaine: | Elektronifysiikka (S-69) |
Valvoja: | Kuivalainen, Pekka |
Ohjaaja: | |
OEVS: | Sähköinen arkistokappale on luettavissa Aalto Thesis Databasen kautta.
Ohje Digitaalisten opinnäytteiden lukeminen Aalto-yliopiston Harald Herlin -oppimiskeskuksen suljetussa verkossaOppimiskeskuksen suljetussa verkossa voi lukea sellaisia digitaalisia ja digitoituja opinnäytteitä, joille ei ole saatu julkaisulupaa avoimessa verkossa. Oppimiskeskuksen yhteystiedot ja aukioloajat: https://learningcentre.aalto.fi/fi/harald-herlin-oppimiskeskus/ Opinnäytteitä voi lukea Oppimiskeskuksen asiakaskoneilla, joita löytyy kaikista kerroksista.
Kirjautuminen asiakaskoneille
Opinnäytteen avaaminen
Opinnäytteen lukeminen
Opinnäytteen tulostus
|
Sijainti: | P1 Ark S80 | Arkisto |
Avainsanat: | p-i-n diode heterojunction step recovery diode |
Tiivistelmä (eng): | This Master's Thesis deals with the study and fabrication of double heterostructure step recovery diode based on gallium arsenide technology. The step recovery diode behaves as a two-state capacitor of large capacitance under forward bias and small capacitance under reverse bias. Ap+-i-n+ double heterostructure step recovery diode (DHSRD) fabricated on AlGaAs structure has demostrated the fastest transition time. The fastest transition times are obtained by the linearly graded bandgap AlxGa1-xAs with grading from x=0-0.15. The linear grading provides an electron field which confines the injected holes closer to the p+ exit region and also provides a drift field to accelerate hole removal during the reverse recovery process. In this Master's thesis, p+-i-n+ based DHSRD have been fabricated with Al0.25Ga0.75As / AlxGa1-xAs / Al0.25Ga0.75As structure and Al0.20Ga0.80As/AlxGa1-xAs/Al0.20Ga0.80As structure, where x = 0 - 0.15. Measurements of the second structural DHSRD show an ideality factor of 1.95 and a rise time of 50 ps, approximately. The capacitance under forward bias is 108 pF, and 0.9 pF under reverse bias. |
ED: | 1997-01-09 |
INSSI tietueen numero: 11811
+ lisää koriin
« edellinen | seuraava »
INSSI