haku: @keyword BF33 / yhteensä: 2
viite: 1 / 2
« edellinen | seuraava »
Tekijä: | Lyytinen, Jussi |
Työn nimi: | Fixed Abrasive Chemical Mechanical Planarization Process Development for MEMS-Applications |
CMP-kiillotusprosessin kehitys MEMS-sovelluksiin | |
Julkaisutyyppi: | Diplomityö |
Julkaisuvuosi: | 2009 |
Sivut: | 128 + 33 Kieli: eng |
Koulu/Laitos/Osasto: | Kemian ja materiaalitieteiden tiedekunta |
Oppiaine: | Metalli- ja materiaalioppi (Mak-45) |
Valvoja: | Hannula, Simo-Pekka |
Ohjaaja: | Kilpinen, Petteri ; Haimi, Eero |
OEVS: | Sähköinen arkistokappale on luettavissa Aalto Thesis Databasen kautta.
Ohje Digitaalisten opinnäytteiden lukeminen Aalto-yliopiston Harald Herlin -oppimiskeskuksen suljetussa verkossaOppimiskeskuksen suljetussa verkossa voi lukea sellaisia digitaalisia ja digitoituja opinnäytteitä, joille ei ole saatu julkaisulupaa avoimessa verkossa. Oppimiskeskuksen yhteystiedot ja aukioloajat: https://learningcentre.aalto.fi/fi/harald-herlin-oppimiskeskus/ Opinnäytteitä voi lukea Oppimiskeskuksen asiakaskoneilla, joita löytyy kaikista kerroksista.
Kirjautuminen asiakaskoneille
Opinnäytteen avaaminen
Opinnäytteen lukeminen
Opinnäytteen tulostus
|
Sijainti: | P1 Ark V80 | Arkisto |
Avainsanat: | CMP chemical mechanical planarization chemical mechanical polishing FA fixed abrasive MEMS microelectromechanical systems microsystems silicon silicon dioxide alkali borosilicate glass BF33 CMP planarisointi kemiallis mekaaninen kiillotus MEMS mikroelektromekaaniset systeemit mikrosysteemit pii piidioksidi boorisilikaattilasi BF33 |
ED: | 2014-12-16 |
INSSI tietueen numero: 50151
+ lisää koriin
« edellinen | seuraava »
INSSI