haku: @supervisor Franssila, Sami / yhteensä: 22
hakutulos-lista
viite: 21 / 22
« edellinen | seuraava »
Tekijä:Shah, Syed Ali Raza
Työn nimi:Buried channel technology for chemical microsystems
Julkaisutyyppi:Diplomityö
Julkaisuvuosi:2010
Sivut:xi + 68      Kieli:   eng
Koulu/Laitos/Osasto:Mikro- ja nanotekniikan laitos
Oppiaine:Optiikka ja molekyylimateriaalit   (S-129)
Valvoja:Franssila, Sami
Ohjaaja:Sainiemi, Lauri
OEVS:
Sähköinen arkistokappale on luettavissa Aalto Thesis Databasen kautta.
Ohje
sulje

Digitaalisten opinnäytteiden lukeminen Aalto-yliopiston Harald Herlin -oppimiskeskuksen suljetussa verkossa

Oppimiskeskuksen suljetussa verkossa voi lukea sellaisia digitaalisia ja digitoituja opinnäytteitä, joille ei ole saatu julkaisulupaa avoimessa verkossa.

Oppimiskeskuksen yhteystiedot ja aukioloajat: https://learningcentre.aalto.fi/fi/harald-herlin-oppimiskeskus/

Opinnäytteitä voi lukea Oppimiskeskuksen asiakaskoneilla, joita löytyy kaikista kerroksista.

Kirjautuminen asiakaskoneille

  • Aalto-yliopistolaiset kirjautuvat asiakaskoneille Aalto-tunnuksella ja salasanalla.
  • Muut asiakkaat kirjautuvat asiakaskoneille yhteistunnuksilla.

Opinnäytteen avaaminen

  • Asiakaskoneiden työpöydältä löytyy kuvake:

    Aalto Thesis Database

  • Kuvaketta klikkaamalla pääset hakemaan ja avaamaan etsimäsi opinnäytteen Aaltodoc-tietokannasta. Opinnäytetiedosto löytyy klikkaamalla viitetietojen OEV- tai OEVS-kentän linkkiä.

Opinnäytteen lukeminen

  • Opinnäytettä voi lukea asiakaskoneen ruudulta tai sen voi tulostaa paperille.
  • Opinnäytetiedostoa ei voi tallentaa muistitikulle tai lähettää sähköpostilla.
  • Opinnäytetiedoston sisältöä ei voi kopioida.
  • Opinnäytetiedostoa ei voi muokata.

Opinnäytteen tulostus

  • Opinnäytteen voi tulostaa itselleen henkilökohtaiseen opiskelu- ja tutkimuskäyttöön.
  • Aalto-yliopiston opiskelijat ja henkilökunta voivat tulostaa mustavalkotulosteita Oppimiskeskuksen SecurePrint-laitteille, kun tietokoneelle kirjaudutaan omilla Aalto-tunnuksilla. Väritulostus on mahdollista asiakaspalvelupisteen tulostimelle u90203-psc3. Väritulostaminen on maksullista Aalto-yliopiston opiskelijoille ja henkilökunnalle.
  • Ulkopuoliset asiakkaat voivat tulostaa mustavalko- ja väritulosteita Oppimiskeskuksen asiakaspalvelupisteen tulostimelle u90203-psc3. Tulostaminen on maksullista.
Sijainti:P1 Ark Aalto  1399   | Arkisto
Avainsanat:buried channels
deep reactive ion etching
ALD alumina
Tiivistelmä (eng): Buried micro channels are made by deep reactive ion etching (DRIE) and conformal deposition methods.
The processes rely on anisotropy/isotropy control in DRIE, and closing of the channels by polysilicon or alumina using low pressure chemical vapour deposition (LPCVD) or atomic layer deposition (ALD) alone or in combination.
First DRIE depth of silicon, sidewall passivation material and methods, passivation removal etches, isotropic DRIE lateral etch rate and closing deposition conformality were characterized Based on the above characterization, the design rules of the buried channel technology were optimized.
The use of ALD alumina resulted in a better sidewall passivation compared to thermal oxide and LPCVD silicon nitride due to its massive selectivity against silicon in DRIE.
Extremely thin layers (less than 30nm) of ALD alumina were employed, which enabled extensive control over the size of the buried cavities during isotropic DRIE.
The closing of the channels was carried out with ALD alumina and LPCVD polysilicon.
The channel closure and surface profile were analyzed and it was observed that ALD alumina provides improved surface quality and channel closure compared to LPCVD polysilicon.
ALD has a slow growth rate, which is a major limitation to deposit thicker layers (greater than 1µm) for the sealing of the micro channels with wider openings (greater than 2µm).
LPCVD polysilicon is a better candidate for wider channel openings but improvement in the surface profile is needed.
Reduction in the grain size serves the purpose and can be achieved with careful adjustment in the LPCVD process parameters.

Buried channels enable concentric micro channels to be made, which is of considerable interest in many fluidic applications.
The process flow is ideal foe making 3D micro fluidic networks for fluidic handling.
New applications are foreseen in microfuel cells, micro reactors and mass spectrometry ships.
ED:2011-01-19
INSSI tietueen numero: 41500
+ lisää koriin
« edellinen | seuraava »
INSSI