haku: @keyword PMOS / yhteensä: 3
viite: 2 / 3
Tekijä: | Lempinen, Vesa-Pekka |
Työn nimi: | Fabrication, characterization and applications of rapid thermal processed silicon dioxide thin-films |
RTO oksidoitujen piidioksidiohutkalvojen valmistus, karakterisointi ja sovellukset | |
Julkaisutyyppi: | Diplomityö |
Julkaisuvuosi: | 1999 |
Sivut: | 55 Kieli: eng |
Koulu/Laitos/Osasto: | Teknillisen fysiikan ja matematiikan osasto |
Oppiaine: | Elektronifysiikka (S-69) |
Valvoja: | Kuivalainen, Pekka |
Ohjaaja: | Härkönen, Jaakko |
OEVS: | Sähköinen arkistokappale on luettavissa Aalto Thesis Databasen kautta.
Ohje Digitaalisten opinnäytteiden lukeminen Aalto-yliopiston Harald Herlin -oppimiskeskuksen suljetussa verkossaOppimiskeskuksen suljetussa verkossa voi lukea sellaisia digitaalisia ja digitoituja opinnäytteitä, joille ei ole saatu julkaisulupaa avoimessa verkossa. Oppimiskeskuksen yhteystiedot ja aukioloajat: https://learningcentre.aalto.fi/fi/harald-herlin-oppimiskeskus/ Opinnäytteitä voi lukea Oppimiskeskuksen asiakaskoneilla, joita löytyy kaikista kerroksista.
Kirjautuminen asiakaskoneille
Opinnäytteen avaaminen
Opinnäytteen lukeminen
Opinnäytteen tulostus
|
Sijainti: | P1 Ark TF80 | Arkisto |
Avainsanat: | RTO silicon dioxide thin-film PMOS RTO piidioksidi ohutkalvo PMOS |
ED: | 2000-01-26 |
INSSI tietueen numero: 15182
+ lisää koriin
INSSI