haku: @keyword DRIE / yhteensä: 3
viite: 2 / 3
Tekijä: | Reini, Vesa |
Työn nimi: | Reaktiivisen ionisyväetsauksen tuplamaskausprosessin optimointi |
Optimization of two-level deep reactive ion etching process | |
Julkaisutyyppi: | Diplomityö |
Julkaisuvuosi: | 2010 |
Sivut: | viii + 84 + [9] Kieli: fin |
Koulu/Laitos/Osasto: | Kemian ja materiaalitieteiden tiedekunta |
Oppiaine: | Elektroniikan valmistustekniikka (S-113) |
Valvoja: | Paulasto-Kröckel, Mervi |
Ohjaaja: | Savolainen, Kari |
OEVS: | Sähköinen arkistokappale on luettavissa Aalto Thesis Databasen kautta.
Ohje Digitaalisten opinnäytteiden lukeminen Aalto-yliopiston Harald Herlin -oppimiskeskuksen suljetussa verkossaOppimiskeskuksen suljetussa verkossa voi lukea sellaisia digitaalisia ja digitoituja opinnäytteitä, joille ei ole saatu julkaisulupaa avoimessa verkossa. Oppimiskeskuksen yhteystiedot ja aukioloajat: https://learningcentre.aalto.fi/fi/harald-herlin-oppimiskeskus/ Opinnäytteitä voi lukea Oppimiskeskuksen asiakaskoneilla, joita löytyy kaikista kerroksista.
Kirjautuminen asiakaskoneille
Opinnäytteen avaaminen
Opinnäytteen lukeminen
Opinnäytteen tulostus
|
Sijainti: | P1 Ark Aalto 272 | Arkisto |
Avainsanat: | DRIE 2-level masking Si residual Bosch process DRIE tuplamaskaus piijäämä Bosch-prosessi |
ED: | 2013-11-08 |
INSSI tietueen numero: 47441
+ lisää koriin
INSSI