haku: @keyword Reactive Ion Etching / yhteensä: 4
viite: 4 / 4
« edellinen | seuraava »
| Tekijä: | Xia, Chuan |
| Työn nimi: | Electron Beam Lithography |
| Elektronisuihkulitografia | |
| Julkaisutyyppi: | Lisensiaatintutkimus |
| Julkaisuvuosi: | 1999 |
| Sivut: | 73 Kieli: eng |
| Koulu/Laitos/Osasto: | Sähkö- ja tietoliikennetekniikan osasto |
| Oppiaine: | Elektronifysiikka (S-69) |
| Valvoja: | Sinkkonen, Juha |
| Ohjaaja: | |
| Sijainti: | S | Arkisto |
| Avainsanat: | scanning electron microscope electron beam lithography liftoff reactive ion etching anisotropic etching fluorine gases silicon nanostructures |
| ED: | 1999-09-17 |
INSSI tietueen numero: 14692
+ lisää koriin
« edellinen | seuraava »
INSSI