haku: @supervisor Tittonen, Ilkka / yhteensä: 48
hakutulos-lista
viite: 12 / 48
« edellinen | seuraava »
Tekijä:Liu, Zhengjun
Työn nimi:Aluminum oxide hard mask fabrication by focused ion beam implantation and wet etching
Julkaisutyyppi:Diplomityö
Julkaisuvuosi:2012
Sivut:[7] + 70      Kieli:   eng
Koulu/Laitos/Osasto:Mikro- ja nanotekniikan laitos
Oppiaine:Optiikka ja molekyylimateriaalit   (S-129)
Valvoja:Tittonen, Ilkka
Ohjaaja:Chekurov, Nikolai
Elektroninen julkaisu: http://urn.fi/URN:NBN:fi:aalto-201305163108
OEVS:
Sähköinen arkistokappale on luettavissa Aalto Thesis Databasen kautta.
Ohje
sulje

Digitaalisten opinnäytteiden lukeminen Aalto-yliopiston Harald Herlin -oppimiskeskuksen suljetussa verkossa

Oppimiskeskuksen suljetussa verkossa voi lukea sellaisia digitaalisia ja digitoituja opinnäytteitä, joille ei ole saatu julkaisulupaa avoimessa verkossa.

Oppimiskeskuksen yhteystiedot ja aukioloajat: https://learningcentre.aalto.fi/fi/harald-herlin-oppimiskeskus/

Opinnäytteitä voi lukea Oppimiskeskuksen asiakaskoneilla, joita löytyy kaikista kerroksista.

Kirjautuminen asiakaskoneille

  • Aalto-yliopistolaiset kirjautuvat asiakaskoneille Aalto-tunnuksella ja salasanalla.
  • Muut asiakkaat kirjautuvat asiakaskoneille yhteistunnuksilla.

Opinnäytteen avaaminen

  • Asiakaskoneiden työpöydältä löytyy kuvake:

    Aalto Thesis Database

  • Kuvaketta klikkaamalla pääset hakemaan ja avaamaan etsimäsi opinnäytteen Aaltodoc-tietokannasta. Opinnäytetiedosto löytyy klikkaamalla viitetietojen OEV- tai OEVS-kentän linkkiä.

Opinnäytteen lukeminen

  • Opinnäytettä voi lukea asiakaskoneen ruudulta tai sen voi tulostaa paperille.
  • Opinnäytetiedostoa ei voi tallentaa muistitikulle tai lähettää sähköpostilla.
  • Opinnäytetiedoston sisältöä ei voi kopioida.
  • Opinnäytetiedostoa ei voi muokata.

Opinnäytteen tulostus

  • Opinnäytteen voi tulostaa itselleen henkilökohtaiseen opiskelu- ja tutkimuskäyttöön.
  • Aalto-yliopiston opiskelijat ja henkilökunta voivat tulostaa mustavalkotulosteita Oppimiskeskuksen SecurePrint-laitteille, kun tietokoneelle kirjaudutaan omilla Aalto-tunnuksilla. Väritulostus on mahdollista asiakaspalvelupisteen tulostimelle u90203-psc3. Väritulostaminen on maksullista Aalto-yliopiston opiskelijoille ja henkilökunnalle.
  • Ulkopuoliset asiakkaat voivat tulostaa mustavalko- ja väritulosteita Oppimiskeskuksen asiakaspalvelupisteen tulostimelle u90203-psc3. Tulostaminen on maksullista.
Sijainti:P1 Ark Aalto  981   | Arkisto
Avainsanat:FIB
photoresist-free
aluminum oxide
hard mask
cryogenic DRIE
nanofabrication
Tiivistelmä (eng): A novel aluminum oxide (Al2O3) hard mask fabrication process with nanoscale resolution is introduced in this work.
The Al2O3 mask can be used for various purposes, and in this thesis it was utilized for silicon patterning using cryogenic deep reactive ion etching (DRIE).
Patterning of Al2O3 is a two-step process utilizing focused ion beam (FIB) irradiation combined with wet etching.
Ga+ FIB maskless patterning renders wet etch selectivity between the irradiated region and the non-irradiated region on the Al2O3 layer, and mask patterns can be easily revealed by wet etching.
This method is a modification of direct Ga+ FIB implantation for silicon etch stop.
Introducing an Al2O3 layer eliminates the lattice damage and doping to silicon substrate in critical devices, as an extra film protects the underlying silicon from Ga+ ions.
Masking capacity is evaluated in terms of equal width line and space pairs amount per 1 µm in a nano-line array. 7 pairs per 1 µm is achieved in this work.
ED:2012-12-17
INSSI tietueen numero: 45716
+ lisää koriin
« edellinen | seuraava »
INSSI