haku: @instructor Leskelä, Tuula / yhteensä: 5
viite: 1 / 5
« edellinen | seuraava »
| Tekijä: | Kannisto, Klaara |
| Työn nimi: | Atomic Layer Deposition of Metal Thin Films |
| Julkaisutyyppi: | Kandidaatintyö |
| Julkaisuvuosi: | 2010 |
| Sivut: | 29 Kieli: eng |
| Koulu/Laitos/Osasto: | Kemian ja materiaalitieteiden tiedekunta |
| Koulutusohjelma: | Kemian tekniikan tutkinto-ohjelma |
| Oppiaine: | Kemia (KE3001) |
| Valvoja: | Linnekoski, Juha |
| Ohjaaja: | Malm, Jari ; Leskelä, Tuula |
| Elektroninen julkaisu: | http://urn.fi/URN:NBN:fi:aalto-201305164420 |
| Sijainti: | |
| Avainsanat: | atomic layer deposition metal thin films semiconductor microelectronics processing |
| ED: | 2011-12-19 |
INSSI tietueen numero: 43299
+ lisää koriin
« edellinen | seuraava »
INSSI