haku: @keyword TiO2 / yhteensä: 5
viite: 4 / 5
Tekijä:Kilpi, Olli-Pekka
Työn nimi:Lämpötilan vaikutus TiO2 ohutkalvon rakenteeseen atomikerroskasvatuksessa
Julkaisutyyppi:Kandidaatintyö
Julkaisuvuosi:2012
Sivut:30      Kieli:   fin
Koulu/Laitos/Osasto:Sähkötekniikan korkeakoulu
Koulutusohjelma:Elektroniikan ja sähkötekniikan koulutusohjelma
Oppiaine:Sähköfysiikka   (S3025)
Valvoja:Turunen, Markus
Ohjaaja:Perros, Alexander
Elektroninen julkaisu: http://urn.fi/URN:NBN:fi:aalto-201305162877
Sijainti:  
Avainsanat:Atomikerroskasvatus
ALD
TiO2
lämpötila
ED:2012-07-04
INSSI tietueen numero: 44839
+ lisää koriin
INSSI