haku: @keyword chemical vapor deposition / yhteensä: 5
viite: 1 / 5
« edellinen | seuraava »
Tekijä:Hakanen, Niko
Työn nimi:Graphene growth on thin nickel films
Julkaisutyyppi:Kandidaatintyƶ
Julkaisuvuosi:2015
Sivut:32      Kieli:   eng
Koulu/Laitos/Osasto:Perustieteiden korkeakoulu
Koulutusohjelma:Teknillisen fysiikan ja matematiikan koulutusohjelma
Oppiaine:Teknillinen fysiikka   (F3005)
Valvoja:Liljeroth, Peter
Ohjaaja:Drost, Robert
Elektroninen julkaisu: http://urn.fi/URN:NBN:fi:aalto-201511115065
Sijainti:  
Avainsanat:graphene
nickel thin films
chemical vapor deposition
physical vapor deposition
auger electron spectroscopy
low-energy electron diffraction
ED:2015-11-29
INSSI tietueen numero: 52396
+ lisää koriin
« edellinen | seuraava »
INSSI