haku: @supervisor Koskinen, Ari / yhteensä: 62
hakutulos-lista
viite: 21 / 62
« edellinen | seuraava »
Tekijä:Saarniheimo, Mikael
Työn nimi:Läpinäkyvän johtavan oksidikalvon piipohjaiset aluskerrokset
Silicon based underlayers for transparent conducting oxide
Julkaisutyyppi:Diplomityö
Julkaisuvuosi:2011
Sivut:vi + 93 + [3]      Kieli:   fin
Koulu/Laitos/Osasto:Kemian laitos
Oppiaine:Orgaaninen kemia   (Kem-4)
Valvoja:Koskinen, Ari
Ohjaaja:Rajala, Markku
OEVS:
Sähköinen arkistokappale on luettavissa Aalto Thesis Databasen kautta.
Ohje
sulje

Digitaalisten opinnäytteiden lukeminen Aalto-yliopiston Harald Herlin -oppimiskeskuksen suljetussa verkossa

Oppimiskeskuksen suljetussa verkossa voi lukea sellaisia digitaalisia ja digitoituja opinnäytteitä, joille ei ole saatu julkaisulupaa avoimessa verkossa.

Oppimiskeskuksen yhteystiedot ja aukioloajat: https://learningcentre.aalto.fi/fi/harald-herlin-oppimiskeskus/

Opinnäytteitä voi lukea Oppimiskeskuksen asiakaskoneilla, joita löytyy kaikista kerroksista.

Kirjautuminen asiakaskoneille

  • Aalto-yliopistolaiset kirjautuvat asiakaskoneille Aalto-tunnuksella ja salasanalla.
  • Muut asiakkaat kirjautuvat asiakaskoneille yhteistunnuksilla.

Opinnäytteen avaaminen

  • Asiakaskoneiden työpöydältä löytyy kuvake:

    Aalto Thesis Database

  • Kuvaketta klikkaamalla pääset hakemaan ja avaamaan etsimäsi opinnäytteen Aaltodoc-tietokannasta. Opinnäytetiedosto löytyy klikkaamalla viitetietojen OEV- tai OEVS-kentän linkkiä.

Opinnäytteen lukeminen

  • Opinnäytettä voi lukea asiakaskoneen ruudulta tai sen voi tulostaa paperille.
  • Opinnäytetiedostoa ei voi tallentaa muistitikulle tai lähettää sähköpostilla.
  • Opinnäytetiedoston sisältöä ei voi kopioida.
  • Opinnäytetiedostoa ei voi muokata.

Opinnäytteen tulostus

  • Opinnäytteen voi tulostaa itselleen henkilökohtaiseen opiskelu- ja tutkimuskäyttöön.
  • Aalto-yliopiston opiskelijat ja henkilökunta voivat tulostaa mustavalkotulosteita Oppimiskeskuksen SecurePrint-laitteille, kun tietokoneelle kirjaudutaan omilla Aalto-tunnuksilla. Väritulostus on mahdollista asiakaspalvelupisteen tulostimelle u90203-psc3. Väritulostaminen on maksullista Aalto-yliopiston opiskelijoille ja henkilökunnalle.
  • Ulkopuoliset asiakkaat voivat tulostaa mustavalko- ja väritulosteita Oppimiskeskuksen asiakaspalvelupisteen tulostimelle u90203-psc3. Tulostaminen on maksullista.
Sijainti:P1 Ark Aalto  1937   | Arkisto
Avainsanat:underlayer
silicon oxynitride
silicon oxycarbide
chemical vapor desosition
transparent conducting oxide
aluskerros
piioksidikarbidi
piioksidinitridi
kemiallinen kaasufaasikasvatus
läpinäkyvä johtava oksidi
Tiivistelmä (fin): Aluskerrosta käytetään läpinäkyvän johtavan oksidikalvon sekä lasisubstraatin välissä ohutkalvoaurinkokennoissa ja energiansäästölaseissa.
Aluskerros toimii natriumin diffuusiovallina ja sen avulla voidaan poistaa johtavan oksidikalvon aiheuttamat interferenssivärit.

Työssä tutkittiin piioksinitridin sekä piioksikarbidin soveltuvuutta aluskerrokseksi matalan lämpötilan (< 620 °C) prosessissa.
Työssä kartoitettiin myös, millä muuttujilla prosessien kasvunopeutta ja kalvojen laatua pystytään hallitsemaan.
Näytteet valmistettiin ilmanpaineessa tehtävällä stationaarisella kemiallisella kaasufaasikasvatuksella.
Piioksinitridikalvot kasvatettiin käyttämällä silaania, ammoniakkia, dityppioksidia sekä typpeä.
Piioksikarbidikalvojen valmistuksessa käytettiin silaania, hiilidioksidia, eteeniä ja typpeä.

Kokeiden tuloksena todettiin, että kalvojen kasvunopeutta pystytään parantamaan korottamalla kasvatuslämpötilaa.
Piioksinitridin kasvunopeus oli piioksikarbidia korkeampi alle 620 °C lämpötiloissa.
Tätä korkeammissa lämpötiloissa suhde muuttui painvastaiseksi.
Prosessien kasvunopeutta voitiin parantaa myös kasvattamalla silaanin konsentraatiota.
Eteenin konsentraation kasvattaminen sen sijaan hidasti kalvon kasvua.
Kokonaisvirtauksen suuruudella pystyttiin vaikuttamaan materiaalihäviöiden määrään.

Kalvojen koostumuksella oli vaikutusta niiden optisiin ominaisuuksiin.
Piioksinitridikalvojen taitekerroin oli hallittavissa ammoniakin ja dityppioksidin syötöillä.
Piioksikarbidikalvojen taitekertoimen kontrolloiminen ei onnistunut yhtä hyvin.
Työssä osoitettiin, että piioksinitridikalvot soveltuvat piioksikarbidikalvoja paremmin aluskerrokseksi matalan lämpötilan prosessiin.
Tiivistelmä (eng): Underlayer is used between transparent conducting oxide layer and glass substrate in thin film solar cells and low-emissivity glasses.
The underlayer acts as a diffusion barrier and it can eliminate the interference colours that would be otherwise shown by the transparent conducting oxide.

The focus of this thesis was to study the suitability of silicon oxynitride and silicon oxycarbide as an underlayer for a low temperature (< 620°C) process.
Capability to control the growth rate and the quality of the films was also examined.
Samples were prepared with stationary atmospheric pressure chemical vapor deposition.
Silicon oxynitride films were grown with silane, ammonia, nitrous oxide and nitrogen.
Silicon oxycarbide films were grown with silane, carbon dioxide, ethylene and nitrogen.

It was observed that the growth rate can be improved by increasing the temperature.
The growth rate of silicon oxynitrides was higher than of silicon oxycarbides at temperatures below 620°C.
The relation was contrary at higher temperatures.
It was possible to improve the growth rate by increasing silane concentration.
Increasing ethylene concentration decreased the growth rate.
Total flow rate had significant effect on the amount of material loss.

The composition of the films had effect on their optical properties.
It was possible to control the refractive index of silicon oxynitrides with the feed ratio of ammonia and nitrous oxide.
Controlling the refractive index of silicon oxycarbide films with carbon dioxide and ethylene was not as successful.

It was shown that silicon oxynitrides are preferable to silicon oxycarbides as an underlayer for a low temperature process.
ED:2012-05-10
INSSI tietueen numero: 44464
+ lisää koriin
« edellinen | seuraava »
INSSI