haku: @keyword PVD / yhteensä: 7
viite: 2 / 7
| Tekijä: | Myllynen, Antti |
| Työn nimi: | Oksidiohutkalvojen valmistus FCVAD- ja HiPIMS-menetelmillä sekä niihin liittyvät ongelmat |
| Julkaisutyyppi: | Kandidaatintyö |
| Julkaisuvuosi: | 2015 |
| Sivut: | 22 Kieli: fin |
| Koulu/Laitos/Osasto: | Kemian tekniikan korkeakoulu |
| Koulutusohjelma: | Materiaalitekniikan koulutusohjelma |
| Oppiaine: | Soveltava materiaalitiede (MT3001) |
| Valvoja: | Forsén, Olof |
| Ohjaaja: | Korhonen, Antti |
| Elektroninen julkaisu: | http://urn.fi/URN:NBN:fi:aalto-201506303289 |
| Sijainti: | |
| Avainsanat: | oksidiohutkalvo HiPIMS FCVAD PVD alumiinioksidi titaanioksidi |
| ED: | 2015-08-16 |
INSSI tietueen numero: 51684
+ lisää koriin
INSSI