search query: @keyword stripping / total: 1
reference: 1 / 1
« previous | next »
Author: | Lindblom, Timo |
Title: | Fotoresistitekniikan kehittäminen submikronialueen CMOS-prosessiin |
Development of Electrical and Communications Engineering | |
Publication type: | Master's thesis |
Publication year: | 1999 |
Pages: | 69 Language: fin |
Department/School: | Sähkö- ja tietoliikennetekniikan osasto |
Main subject: | Elektronifysiikka (S-69) |
Supervisor: | Kuivalainen, Pekka |
Instructor: | |
OEVS: | Electronic archive copy is available via Aalto Thesis Database.
Instructions Reading digital theses in the closed network of the Aalto University Harald Herlin Learning CentreIn the closed network of Learning Centre you can read digital and digitized theses not available in the open network. The Learning Centre contact details and opening hours: https://learningcentre.aalto.fi/en/harald-herlin-learning-centre/ You can read theses on the Learning Centre customer computers, which are available on all floors.
Logging on to the customer computers
Opening a thesis
Reading the thesis
Printing the thesis
|
Location: | P1 Ark S80 | Archive |
Keywords: | photoresist lithography etching ion-implantation stripping organic resist removal cencor SEM AFM fotoresisti litografia etsaus ioni-istutus strippaus orgaaninen resistinpoisto Censor SEM AFM |
Abstract (fin): | Työn tavoitteena oli tutkia erilaisia resistinpoistotekniikoita, kehittää resistijäämien havainnointimenetelmiä sekä ottaa käyttöön uusi fotoresisti. Päätavoitteena oli kehittää alumiinietsattujen kiekkojen resistinpoistoon soveltuva menetelmä. Kirjallisuustutkimuksessa on käsitelty yleisesti käytettyjä litografialaitteistoja ja -teknologioita sekä perehdytty resistimateriaalien ominaisuuksiin. Lisäksi on selvitetty puolijohdeteknologiassa käytettäviä etsaus- ja ioni-istutusprosesseja ja näiden prosessien aiheuttamia kemiallisia muutoksia resistissä. Nämä muutokset voivat aiheuttaa ongelmia, kun resisti poistetaan. Resistinpoistotekniikoista on käsitelty yleisimmin käytössä olevia märkä- ja kuivapoistomenetelmiä. Lopuksi on esitelty tässä työssä käytettyjä laitteistoja, joilla voidaan tutkia resistinpoiston tehokkuutta ja resistijäämiä. Kokeellisessa osassa on otettu käyttöön uusi fotoresisti, tutkittu useiden erilaisten resistinpoistomenetelmien tehokkuutta alumiinietsatuilla kiekoilla ja kehitetty resistijäämien havainnointiin soveltuvia menetelmiä. Resistinpoiston tehokkuutta alumiinietsatuilta kiekoilta on tarkasteltu pyyhkäisyelektronimikroskoopilla, ja resistinpoiston vaikutuksia alumiinijohtimiin on tutkittu sähköisillä mittauksilla. Piikiekoilla olevien resistijäämien havainnoinnissa on käytetty laser-avusteista mittauslaitteistoa ja atomivoimamikroskooppia. |
ED: | 1999-06-03 |
INSSI record number: 14321
+ add basket
« previous | next »
INSSI