search query: @keyword ALD / total: 38
reference: 30 / 38
| Author: | Mäkinen, Joonas |
| Title: | Hafniumoksidin atomikerroskasvatus ja fysikaaliset ominaisuudet |
| The growth of hafnium oxide by atomic layer deposition and the physical properties | |
| Publication type: | Bachelor's thesis |
| Publication year: | 2009 |
| Pages: | 29 Language: fin |
| Department/School: | Elektroniikan, tietoliikenteen ja automaation tiedekunta |
| Degree programme: | Elektroniikan ja sähkötekniikan tutkinto-ohjelma |
| Main subject: | Sähköfysiikka (S3014) |
| Supervisor: | Turunen, Markus |
| Instructor: | Bosund, Markus |
| Electronic version URL: | http://urn.fi/URN:NBN:fi:aalto-201305166355 |
| Location: | |
| Keywords: | ALD atomikerroskasvatus hafniumoksidi HfO2 taitekerroin läpilyöntikenttä |
| ED: | 2010-02-17 |
INSSI record number: 38977
+ add basket
INSSI