search query: @keyword membraanit / total: 5
reference: 5 / 5
« previous | next »
Author: | Gao, Feng |
Title: | Silicon Etching in Inductively Coupled Plasma for MEMS Structures |
Mikromekaanisten piirakenteiden induktiivisesti kytketty plasmaetsaus | |
Publication type: | Master's thesis |
Publication year: | 2006 |
Pages: | viii + 58 Language: eng |
Department/School: | Sähkö- ja tietoliikennetekniikan osasto |
Main subject: | Elektronifysiikka (S-69) |
Supervisor: | Kuivalainen, Pekka |
Instructor: | Pekko, Panu |
OEVS: | Electronic archive copy is available via Aalto Thesis Database.
Instructions Reading digital theses in the closed network of the Aalto University Harald Herlin Learning CentreIn the closed network of Learning Centre you can read digital and digitized theses not available in the open network. The Learning Centre contact details and opening hours: https://learningcentre.aalto.fi/en/harald-herlin-learning-centre/ You can read theses on the Learning Centre customer computers, which are available on all floors.
Logging on to the customer computers
Opening a thesis
Reading the thesis
Printing the thesis
|
Location: | P1 Ark S80 | Archive |
Keywords: | ICP DRIE MEMS HARS deep silicon etching plasma processing Bosch process comb structures membranes piin syväetsaus plasmaprosessointi Bosch-prosessi kamparakenteet membraanit |
Abstract (fin): | Tässä diplomityössä esitetään piin plasmaetsauksen periaatteet ja tekniikka. Työssä tutkittiin etsaustulokseen vaikuttavia tekijöitä ja niiden keskinäistä riippuvuutta, kun tavoitteena on suuren aspektisuhteen mikromekaanisten (MEMS) rakenteiden etsaus. Lisäksi esitellään plasmatekniikan perusteet, piimikromekaniikkaa, SOI (Silicon on Insulator) -tekniikkaa ja tyypillisiä MEMS-rakenteita. Kokeellinen työ suoritettiin STS:n ICP (Inductively Coupled Plasma) -etsauslaitteistolla. Tulokset koskevat etsausnopeutta, selektiivisyyttä, etsauksen tasaisuutta, saavutettavaa aspektisuhdetta ja etsattujen kuvioiden profiilia. Tärkeimmät muuttujat olivat kelan RF (Radio Frequency) teho, biasteho ja sen taajuus, etsauskammion prosessipaine, kaasujen virtausnopeudet sekä lämpötila. Työssä selvitettiin muuttujien vaikutus etsaustulokseen. Erikoisrakenteita varten kehitettiin useita pulssitukseen perustuvia etsausreseptejä. Reseptejä voidaan hyödyntää vakioresepteinä vastaaville rakenteille vastaavissa laitteistoissa. |
ED: | 2006-12-20 |
INSSI record number: 32783
+ add basket
« previous | next »
INSSI